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		<title>グローバル知財支援サイト &#187; すべての投稿</title>
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		<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 09:29:55 +0000</pubDate>
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					<guid>http://ipm.w-pat.com/qa/topic/1618/#post-1619</guid>
					<title><![CDATA[実用新案制度を採用している国はどのようなところがあるのでしょうか。 への返信]]></title>
					<link>http://ipm.w-pat.com/qa/topic/1618/#post-1619</link>
					<pubDate>Thu, 19 Nov 2015 05:10:34 +0000</pubDate>
					<dc:creator>IAT</dc:creator>

					<description>
						<![CDATA[
						<p>下記に回答致します。IAT</p>
<p>実用新案制度（いわゆる小発明制度）は、世界で９１カ国が採用している制度である。ちなみに、アジアでは、日本、中国、香港、韓国、台湾、タイ、インドネシア、ベトナム、マレーシアなど１８カ国が採用している。また、北米・中南米では１８カ国、ヨーロッパではドイツ、フランスなど２７カ国、アフリカでは２５カ国、オセアニアでは３カ国となっている。</p>
						]]>
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					<guid>http://ipm.w-pat.com/qa/topic/1616/#post-1617</guid>
					<title><![CDATA[中国の実用新案の実態について教えてください。 への返信]]></title>
					<link>http://ipm.w-pat.com/qa/topic/1616/#post-1617</link>
					<pubDate>Thu, 19 Nov 2015 05:07:05 +0000</pubDate>
					<dc:creator>IAT</dc:creator>

					<description>
						<![CDATA[
						<p>下記に回答致します。IAT</p>
<p>審査で登録される国も多い（３９カ国）。<br />
実用新案制度は、多くの国で、出願から１０年で満了するようになっており、特許が出願から２０年で満了するのに比べ、半分の期間の命となっている。</p>
<p>中国の実用新案は、日本と同様、無審査で登録され、権利期間も出願から１０年で満了となる。日本の方々は、日本の実用新案のイメージがあり、実用は使いにくいものとの意識がある。このため、日本における実用新案の出願件数は、審査主義を採用していた１９９０年には、１３８，２９４件の出願があったのが、無審査主義（権利行使の時の制限付加）を採用してから激減し、２００９年では、９，５０７件と１万件を切っている。 一方、中国の２０１０年の実用出願件数は、４０９，８３６件と、膨大な数となっている。</p>
<p>この違いは何に起因しているのだろうか？<br />
①中国では、実用新案が登録されると、無効になりにくい。<br />
②日本に比べ、中国の実用新案は権利行使が非常にしやすい。<br />
③ハイテク企業認定をされると、税法上の優遇がされるが、その条件として、「核心的な自主知的財産権」の保有が最も高く評価される。<br />
ここで、１つの特許権と同等な価値は６つの実用新案権となっている。<br />
④中国では、実用も意匠も、特許と同様、専利の一種であり、登録されると、実用も「専利」とうたうことができる。<br />
⑤中国の方々は、ビジネスで実用を使う感覚が優れている。<br />
⑥実用新案の訴訟案件で約４８億円の損害賠償判決（シュナイダー・エレクトリック事件：被告は仏のシュナイダーエレクトリックが中国天津で設立した低圧電気製品の合弁会社）が出たこと。<br />
これらが原因と思われる。</p>
<p>上記「①中国では、実用新案が登録されると、無効になりにくい。」<br />
の根拠は、次のとおり。<br />
中国の専利指南の「第六章 無効宣告手続における実用新案専利審査に係わる若干の規定」によれば、<br />
「実用新案専利については、一般的に1つや2つの現有技術を引用してその創造性を評価することができる。「単純に重ねている」現有技術により成された実用新案専利の場合は、状況に応じ複数の現有技術を引用してその創造性を評価することができる。」<br />
と記載されている。すなわち、実用新案を無効にしようとする場合、用意する公知資料は、原則２つ以内なのである。</p>
<p>上記「②日本に比べ、中国の実用新案は権利行使が非常にしやすい。」の根拠は、次のとおり。<br />
中国特許法第６１条には、<br />
「－－－警告時の特許権侵害の紛争が実用新案特許又は意匠特許に係る場合、裁判所又は特許業務管理部門は、特許権者又は利害関係者に国務院特許行政部門が関連実用新案または意匠について調査し、分析と評価を行った上、作成した特許権評価報告の提出を要求し、それを特許権侵害の紛争を審理し、処理する場合の証拠とすることができる。」<br />
と記載されている。<br />
日本においては、権利者が模倣者に警告する際には、特許庁が審査した「実用新案技術評価書」の提示を相手にしなければならない規定（日本実用新案法第２９条の２）や、権利行使の後で無効となった場合、権利者に対し、原則として、損害賠償の責を負わせる規定（日本実用新案法第２９条の３）がある。しかし、中国では、これらの規定はなく、上述のように、特許法第６１条では、訴提起後に評価されることがあるのみ。</p>
<p>上記③のハイテク企業認定については、下記のホームページを参照されたい。<br />
<a href="http://www.jetro.go.jp/world/asia/cn/law/tax_028.html" rel="nofollow">http://www.jetro.go.jp/world/asia/cn/law/tax_028.html</a><br />
<a href="http://www.sptl.com.cn/jp/news/news12.htm" rel="nofollow">http://www.sptl.com.cn/jp/news/news12.htm</a></p>
<p>最近では、日本の中国先進企業が、中国の実用新案を活用し始めた。<br />
知財は、「活用して、なんぼ」である。皆様もうまく活用されんことを。</p>
<p>「参考」<br />
中国の専利指南の該当する部分の日本語訳（北京ジェトロのHPにあります対応する部分の日本語訳）を下記します。</p>
<p>第六章 無効宣告手続における実用新案専利審査に係わる若干の規定<br />
1. 序文<br />
専利法2条3項及び22条2項、3項の規定に基づいて本章を制定する。<br />
2. 実用新案専利による保護の客体の審査<br />
無効宣告手続において、実用新案専利による保護の客体の審査は本指南第一部分第二章第6節の規定を適用する。<br />
3. 実用新案専利の新規性の審査<br />
実用新案専利の新規性の審査にあたって、材料的特徴と方法的特徴を含め、その技術方案にあるすべての技術的特徴を考慮すべきである。<br />
実用新案専利の新規性の審査に関連する内容は、新規性の概念、新規性の審査原則、審査基準、優先権の審査及び新規性を喪失しないための猶予期間などの内容を含め、本指南第二部分第三章の規定を適用する。<br />
4. 実用新案専利の創造性の審査<br />
実用新案専利の創造性の審査にあたって、材料的特徴と方法的特徴を含め、その技術方案にあるすべての技術的特徴を考慮すべきである。<br />
実用新案専利の創造性の審査に関連する内容は、創造性の概念、創造性の審査原則、審査基準、及び異なる類型の発明の創造性の判断などの内容を含め、本指南第二部分第四章の規定を参照する。<br />
ただし、専利法22条3項の規定によると、発明の創造性は、現有の技術と比べて当該発明に突出した実質的特徴及び顕著な進歩があることをいい、実用新案の創造性は、現有の技術と比べて当該実用新案に実質的特徴及び進歩があることをいう。従って、実用新案専利の創造性の標準は発明専利の創造性標準より低いものである。<br />
創造性の判断基準についての両者の相違は主に、現有技術の中に「技術的ヒント」があるかということで示される。現有技術の中に「技術的ヒント」があるかを判断する際に、発明専利と実用新案専利とは相違がある。このような相違は、以下に挙げる2点で示される。<br />
（1）現有技術の分野<br />
発明専利については、当該発明専利の属する技術分野のみならず、それに隣接若しくは関連する技術分野、及び当該発明により解決されたい技術的課題でその分野の技術者が技術的手段を探り出すこととなるほかの技術分野を合わせて考慮しなければならない。<br />
実用新案専利については一般的に、当該実用新案専利の属する技術分野に着眼して考慮すべきである。ただし、現有技術で明らかなヒントが与えられる場合、例えば、現有技術に明確に記載されており、その分野の技術者が隣接或いは関連する技術分野から関連の技術的手段を探り出すこととなる場合には、その隣接或いは関連する技術分野を考慮してもよい。<br />
（2）現有技術の数<br />
発明専利については、1つや2つ、或いは複数の現有技術を引用してその創造性を評価することができる。<br />
実用新案専利については、一般的に1つや2つの現有技術を引用してその創造性を評価することができる。「単純に重ねている」現有技術により成された実用新案専利の場合は、状況に応じ複数の現有技術を引用してその創造性を評価することができる。</p>
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					</description>

					
					
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				<item>
					<guid>http://ipm.w-pat.com/qa/topic/1612/#post-1615</guid>
					<title><![CDATA[減免制度における小規模企業者の従業員数には、アルバイトなども含まれますか。 への返信]]></title>
					<link>http://ipm.w-pat.com/qa/topic/1612/#post-1615</link>
					<pubDate>Thu, 19 Nov 2015 05:03:50 +0000</pubDate>
					<dc:creator>IAT</dc:creator>

					<description>
						<![CDATA[
						<p>下記に回答致します。IAT</p>
<p>特許庁の「特許料等の減免制度に関するQ&#038;A」<br />
（http://www.jpo.go.jp/tetuzuki/ryoukin/genmen_faq.htm）<br />
によれば、中小ベンチャー企業・小規模企業の従業員は、以下のとおりです。<br />
(1）中小ベンチャー企業・小規模企業等<br />
従業員基準の考え方は、「解雇の予告を必要とする者」を従業員として考えます。このため、正社員に準じた労働形態である場合には従業員として扱います。<br />
取扱としては、労働基準法第20条の「予め解雇の予告を必要とする者」を従業員として考えます。<br />
従って、解雇の予告を必要としないアルバイトは「常時使用する従業員」には含まれませんが、1か月を超えて引き続き使用される場合等解雇の予告が必要な場合には、「常時使用する従業員」に含まれることになります。<br />
（具体例）<br />
・日々雇い入れられる者（アルバイト等）は原則含みません。<br />
（注）1か月を超えて引き続き使用される場合は含まれることとなります。<br />
・2か月以内の期間を定めて使用される者は原則含みません。<br />
（注）所定の期間を超えて引き続き使用される者は含みます。<br />
・季節的業務に4か月以内の期間を定めて使用される者は原則含みません。<br />
（注）所定の期間を超えて引き続き使用される者は含みます。</p>
						]]>
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				<item>
					<guid>http://ipm.w-pat.com/qa/topic/1608/#post-1610</guid>
					<title><![CDATA[中国において、請求項の範囲で設計変更した場合、先使用権は確保できるか。 への返信]]></title>
					<link>http://ipm.w-pat.com/qa/topic/1608/#post-1610</link>
					<pubDate>Thu, 19 Nov 2015 04:46:02 +0000</pubDate>
					<dc:creator>IAT</dc:creator>

					<description>
						<![CDATA[
						<p>下記に回答致します。IAT</p>
<p>Ⅰ.中国における先使用権の「技術的範囲」<br />
１．結論<br />
（１）Ｂ製品そのものまたはＡ製品を請求項の範囲で設計変更したものは、先使用権の中に入る確率が低いが、入るか否かは、この情報だけでは、判断できない。<br />
２．理由<br />
　中国においては、法律（下記３参照）や法解釈（下記４参照）において記載がなく、先使用権の「技術的範囲」がどこまでかは明確ではない。しかし、平成１８年度特許庁産業財産権制度問題調査研究報告書である「先使用権制度の円滑な利用に関する調査研究報告書」の「第二部　諸外国における先使用権制度（第二分冊）」・・・平成１９年３月財団法人知的財産研究所・・・によれば、以下の記載がある。</p>
<p>　　　中国特許法63条でいう「同一」とは、二つの関係を考慮しなければならない。一つ目は先に使用した技術と特許技術との関係であり、二つ目は出願日前の先使用者が製造中に使用した技術と出願日後の製造中に使用した技術との間の関係である。まず、先使用者による出願日前に製造した製品に含まれる技術的特徴、あるいは使用した方法に含まれる技術的特徴は、特許請求の範囲における独立クレームの技術的特徴のすべてを含んでいなければならない。それは、独立クレームの技術的特徴より多くても良い、又は独立クレームの技術的特徴と同一または独立クレームの技術的特徴と均等でも良いが、独立クレームの技術的特徴より少なくなってはいけない。<br />
　　　次に、先使用者による出願日前に製造した製品に含まれる技術的特徴、あるいは使用した方法に含まれる技術的特徴と、出願日以後に製造した製品あるいは使用した方法に含まれる技術的特徴との関係については、以下の点について検討しなければならないと思料される。</p>
<p>（１）先使用者による出願日前の製造に使用した技術が特許技術と「同一」に構成され、かつ、出願日以後に、その製品あるいは使用方法の技術的特徴を変更しない場合には、先使用者の製品あるいは使用方法の技術的特徴が特許技術と「同一」の関係を有する、すなわち、先使用権を享有する。<br />
（２）先使用者による出願日前の製造に使用した技術が特許技術と「同一」に構成され、かつ、出願日以後に、その製造技術を変更したが、変更後の技術考案が当該特許のいずれかの従属クレームに記載されている技術考案と同一又は均等になる場合には、当該先使用者が特許法第63条に規定されている先使用行為を構成しないため、先使用権を享有しない。<br />
　　　＊作成者コメント<br />
　　　これは、変更前の物が独立クレームに含まれるが、従属クレームには含まれない物であり、変更後の物が独立クレームにも従属クレームにも含まれる物となったときと思われる。※クレームとは、請求項のこと。<br />
（３）先使用者による出願日前に製造に使用した技術が特許技術と「同一」に構成され、出願日以後に製造技術を変更しても、変更後の技術考案が依然として独立クレームの保護範囲に含まれているが、その特許請求の範囲に記載されているいずれの従属クレームとも同一でない場合には、さらに二つの状況に分けて分析しなければならない。</p>
<p>　　　１）先使用者が当該特許技術の独立クレームの「特徴記述部分」（発明要点）に対して変更し、その発明要点を変更した場合には、当該先使用者が技術の実施形式を変更したと認め、出願日前の技術が出願日以後の技術と「同一性」を有しない。よって当該先使用者は変更後の技術考案に先使用権を享有しない。<br />
　　　２）当該先使用者が独立クレームの「特徴記述部分」を変更しない場合には、先行技術を利用して独立クレームの「序文部分」を変更したか否かを区別しなければならない。先行技術を利用してそれを少し変更し、出願以後の技術が出願前に先に使用した技術と「同一」に構成されたと言える場合、先使用権を有すると考えられる。<br />
他方、先行技術を利用して独立クレームの「序文部分」を大幅に変更し、あるいは非先行技術を利用して当該独立クレームの「序文部分」を大幅に変更し、当該使用者が出願日以前に使用した技術が出願日以後に使用した技術と「同一」に構成したとは言えない場合、先使用権を享有しないと考えられる。<br />
　　　　　なお、中国において、先使用権に対して均等論を用いて特許権を制限するか否かに関し、法律や司法解釈は存在せず、判例や学説等も現時点では存在していない。</p>
<p>　３．中国専利法第６９条第２号<br />
　　第６９条<br />
　　次に掲げる事情の一に該当するときは、特許権の侵害とみなさない。<br />
　（１）・・・<br />
　（２）特許出願日前にすでに同一製品を製造し、同一方法を使用し又はすでに製造、使用のために必要な準備をし、かつ従前の範囲内でのみ製造、使用を継続する場合。</p>
<p>　４．法釈［２００９］２１号<br />
　　最高人民法院による専利権侵害をめぐる紛争案件の審理における法律適用の若干問題に関する解釈（法釈［２００９］２１号）<br />
　　（２００９年１２月２１日、最高人民法院審判委員会第１４８０次会議で採択）中華人民共和国最高人民法院公告２００９年１２月２８日　　２０１０年１月１日施行。・・・独立行政法人 日本貿易振興機構(ジェトロ)北京センター知的財産権部編<br />
　　第１５条<br />
　　権利侵害で訴えられた者が不法獲得した技術若しくは設計をもって、先使用権を主張し抗弁する場合、人民法院はこれを支持しない。<br />
　　次のような状況のいずれか一つがある場合、人民法院は、専利法６９条（２）号に定めた、既に製造と使用の必要準備を整えていると認定しなければならない。<br />
　（１）発明創造の実施に必要とされる主な技術的図面若しくは工程書類が完成されている<br />
　（２）発明創造の実施に必要とされる主な設備若しくは原材料の製造又は購入が実施されている<br />
　　専利法６９条(２)号に定めた元の範囲は、専利出願日以前にあった生産規模、および既存の生産設備を利用し、若しくは既存の生産準備状況により達成できるような生産規模が含まれる。<br />
　　専利出願日以降に、先使用権者が既に実施している若しくは実施の必要準備を済ませている技術又は設計を譲渡する、又は実施を許諾する場合において、当該実施行為が元の範囲内での継続実施であるという権利侵害で訴えられた者の主張を、人民法院は支持しない。<br />
 但し、当該技術あるいは設計が従来の企業とともに譲渡若しくは継承される場合は除外される。</p>
						]]>
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				</item>

			
				<item>
					<guid>http://ipm.w-pat.com/qa/topic/1376/#post-1457</guid>
					<title><![CDATA[インドの特許制度において先使用権はないのでしょうか。 への返信]]></title>
					<link>http://ipm.w-pat.com/qa/topic/1376/#post-1457</link>
					<pubDate>Sun, 08 Nov 2015 07:41:02 +0000</pubDate>
					<dc:creator>IAT</dc:creator>

					<description>
						<![CDATA[
						<p>インド特許法では、先使用権を明示する条文はありません。なお特許法第64条によれば、「インドにおいて秘密に実施されていたこと」も特許の取消理由となるので、出願日より前に自社で独自に開発している場合は、取消を申し立てることができます。IAT</p>
						]]>
					</description>

					
					
				</item>

			
				<item>
					<guid>http://ipm.w-pat.com/qa/topic/1344/#post-1456</guid>
					<title><![CDATA[インドにおいて不正競争防止法はあるのでしょうか。 への返信]]></title>
					<link>http://ipm.w-pat.com/qa/topic/1344/#post-1456</link>
					<pubDate>Sun, 08 Nov 2015 07:36:02 +0000</pubDate>
					<dc:creator>IAT</dc:creator>

					<description>
						<![CDATA[
						<p>インド法には、日本の不正競争防止法に相当する法律はありません。不正競争行為や営業秘密に対する対応は、慣習法にて対応します。IAT</p>
						]]>
					</description>

					
					
				</item>

			
				<item>
					<guid>http://ipm.w-pat.com/qa/topic/1376/#post-1376</guid>
					<title><![CDATA[インドの特許制度において先使用権はないのでしょうか。]]></title>
					<link>http://ipm.w-pat.com/qa/topic/1376/#post-1376</link>
					<pubDate>Thu, 05 Nov 2015 22:40:52 +0000</pubDate>
					<dc:creator></dc:creator>

					<description>
						<![CDATA[
						<p>インド・特許・先使用権について</p>
<p>インドの特許制度において先使用権はないのでしょうか。</p>
						]]>
					</description>

					
					
				</item>

			
				<item>
					<guid>http://ipm.w-pat.com/qa/topic/1344/#post-1344</guid>
					<title><![CDATA[インドにおいて不正競争防止法はあるのでしょうか。]]></title>
					<link>http://ipm.w-pat.com/qa/topic/1344/#post-1344</link>
					<pubDate>Sun, 01 Nov 2015 03:08:53 +0000</pubDate>
					<dc:creator>山田</dc:creator>

					<description>
						<![CDATA[
						<p>インド・不正競争防止法について</p>
<p>インドにおいて不正競争防止法はあるのでしょうか。</p>
						]]>
					</description>

					
					
				</item>

			
				<item>
					<guid>http://ipm.w-pat.com/qa/topic/626/#post-629</guid>
					<title><![CDATA[インドにも、日本のような職務発明制度が存在しますでしょうか。 への返信]]></title>
					<link>http://ipm.w-pat.com/qa/topic/626/#post-629</link>
					<pubDate>Sun, 16 Aug 2015 01:01:37 +0000</pubDate>
					<dc:creator>IAT</dc:creator>

					<description>
						<![CDATA[
						<p>本サイト管理者のIATです。</p>
<p>インドには、日本のような職務発明制度はありません。意匠、著作権においてもありません。<br />
実務では、従業者と雇用者の間で、”業務を通して創出された発明の出願権等は、会社に譲渡する”旨等の契約がされているようです。職務発明制度がありませんので、会社側は、その譲渡に対して対価を支払う義務はありません。、</p>
						]]>
					</description>

					
					
				</item>

			
				<item>
					<guid>http://ipm.w-pat.com/qa/topic/626/#post-626</guid>
					<title><![CDATA[インドにも、日本のような職務発明制度が存在しますでしょうか。]]></title>
					<link>http://ipm.w-pat.com/qa/topic/626/#post-626</link>
					<pubDate>Sat, 15 Aug 2015 05:34:25 +0000</pubDate>
					<dc:creator></dc:creator>

					<description>
						<![CDATA[
						<p>インド・特許・職務発明について</p>
<p>インドにも、日本のような職務発明制度が存在しますでしょうか。</p>
						]]>
					</description>

					
					
				</item>

					
		
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